哈西奈德乳膏

本品主要成分及其化学名称为：哈西奈德(氯氟舒松﹑哈西缩松)。

本品用于接触性湿疹，异位性皮炎，神经性皮炎，面积不大的银屑病，硬化性萎缩性苔藓，扁平苔藓，盘状红斑性狼疮，脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

少数患者涂药部位的皮肤发生烧灼感，刺痛，暂时性瘙痒，长期应用可发生皮肤毛细血管扩张(尤其面部)，皮肤萎缩，萎缩纹(青少年易发生)皮肤萎缩后继发紫癜，瘀斑，皮肤脆弱，多毛症，毛囊炎，粟丘疹，皮肤脱色，延缓溃疡愈合，封包法在皮肤皱褶部位容易继发真菌感染。经皮肤吸收多时，可发生全身性不良反应(参看注意事项)。

对该药过敏者。由细菌﹑真菌﹑病毒和寄生虫引起的原发性皮肤病变。溃疡性病变。痤疮﹑酒渣鼻。眼睑部用药(有引起青光眼的危险)。渗出性皮肤病。

室温密闭保存。